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钨钼材料在离子植入设备中的应用

在现代集成电路制造中，离子植入是一项非常重要的技术，其基本原理是：用能量为100keV量级的离子束入射到材料中去，离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和

发布日期：2024-07-26　浏览量：4420

溅射靶材的应用领域

溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是物理气相沉积(PVD)主要方法之一,它用于在表面沉积具有某种特殊功能的薄膜。溅射靶材的主要应用于平板显示镀膜、半导体镀膜，玻

发布日期：2024-07-08　浏览量：2834